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学术报告|二维晶体管的范德华集成工艺

文章来源: 发布时间:2022-06-16 09:30:00 浏览次数:

 2022年6月14日下午三点,best365官方网站登录入口以“二维晶体管的范德华集成工艺”为题的学术报告在图书馆学术报告厅成功举办。本次论坛邀请到刘渊教授作主讲,由best365在线官网登录入口毛宇亮教授主持。学院科研骨干、青年教师和相关专业本科生、研究生同学参会。

刘渊教授现为湖南大学物理与微电子科学学院教授,主要从事新型半导体微纳电子器件设计、制造、加工、测量工作。近年来在新型电子器件等领域发表学术论文100余篇,引用15,000余次,入选2018至2021科睿唯安高被引学者。




 

报告伊始,刘渊教授从晶体管的极限微缩背景和二维晶体管面临的挑战出发,具体阐释了通过金属范德华集成工艺实现金属-半导体界面的方法,该方法可以实现原子级别平整、不受限制的集成界面,最大限度地保证二维半导体的本征性能。接下来,他介绍了其研究团队利用该方法得到的“范德华金属-硫化钼接触”,发现其肖特基势垒及主要载流子随金属功函数高度可调,且有弱钉扎效应;随后,他详细分析了范德华接触在垂直晶体管微缩、垂直肖特基二极管微缩和垂直忆阻器微缩中的优势;最后,他分享了其团队使用PVA旋涂法提高基底应力向二维半导体传递效率的创新方法。

在精彩的报告之后。刘渊教授与在座师生就其报告中应力调控的可逆性、PVA旋涂厚度和去集成工艺等学术问题展开了热烈的讨论,并对大家的问题进行了一一解答。




 

本次学术讲座内容精彩丰富且有深度,为湘大师生带来了二维晶体管的前沿研究,开拓了大家的学术视野,激发了大家对中国科学前沿领域和最新研究方法的极大兴趣,引发了大家对于科研创新的思考。

 

 

文:宋宇科

图:宋宇科